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  • GRS2000墨水納米分散機(jī)
    GRS2000墨水納米分散機(jī)

    墨水納米分散機(jī)是顆粒細(xì)化到納米級(jí)后,其表面積累了大量的正、負(fù)電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當(dāng)降至1nm時(shí),表面原子比例高達(dá)90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。

    更新日期:2024-11-22型號(hào):GRS2000
  • GMSD2000超細(xì)粉體分散機(jī)
    GMSD2000超細(xì)粉體分散機(jī)

    超細(xì)粉體分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體、氣體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程。

    更新日期:2024-11-22型號(hào):GMSD2000
  • GMD2000頭孢他啶注射液三級(jí)納米分散機(jī)
    GMD2000頭孢他啶注射液三級(jí)納米分散機(jī)

    頭孢他啶注射液三級(jí)納米分散機(jī)采用德國(guó)先進(jìn)的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及皮帶傳動(dòng)技術(shù),將德國(guó)先進(jìn)的膠體磨技術(shù)與德國(guó)先進(jìn)的超高速分散機(jī)技術(shù)合二為一,設(shè)備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。

    更新日期:2024-11-22型號(hào):GMD2000
  • GMD2000垂體后葉注射液高剪切分散機(jī)
    GMD2000垂體后葉注射液高剪切分散機(jī)

    垂體后葉注射液高剪切分散機(jī)采用德國(guó)先進(jìn)的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及皮帶傳動(dòng)技術(shù),將德國(guó)先進(jìn)的膠體磨技術(shù)與德國(guó)先進(jìn)的超高速分散機(jī)技術(shù)合二為一,設(shè)備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。

    更新日期:2024-11-22型號(hào):GMD2000
  • GRS2000防水劑管線式三級(jí)研磨分散機(jī)
    GRS2000防水劑管線式三級(jí)研磨分散機(jī)

    防水劑管線式三級(jí)研磨分散機(jī)采用德國(guó)先進(jìn)的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及皮帶傳動(dòng)技術(shù),將德國(guó)先進(jìn)的膠體磨技術(shù)與德國(guó)先進(jìn)的超高速分散機(jī)技術(shù)合二為一,設(shè)備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。

    更新日期:2024-11-22型號(hào):GRS2000
  • GMD2000光刻膠拋光液超高速分散機(jī)
    GMD2000光刻膠拋光液超高速分散機(jī)

    光刻膠拋光液超高速分散機(jī)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,膠體磨磨頭+分散盤(pán)定轉(zhuǎn)子,先研磨后分散效果更佳。

    更新日期:2024-11-22型號(hào):GMD2000
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