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改進(jìn)型膠體磨,創(chuàng)新型膠體磨

改進(jìn)型膠體磨,創(chuàng)新型膠體磨

產(chǎn)品型號(hào): GMSD2000/4

所屬分類(lèi):德國(guó)膠體磨

更新時(shí)間:2024-10-22

簡(jiǎn)要描述:改進(jìn)型膠體磨,創(chuàng)新型膠體磨是三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,***小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到21000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。

詳細(xì)說(shuō)明:

升級(jí)版膠體磨,改進(jìn)型膠體磨,創(chuàng)新型膠體磨,高速研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),SGN高速研磨分散機(jī),管線式研磨分散機(jī),中試型研磨分散機(jī),德國(guó)研磨分散機(jī)

 

改進(jìn)型膠體磨,創(chuàng)新型膠體磨是三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,***小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到21000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。

*創(chuàng)意,融化理念。將高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來(lái)GM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(pán)(均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán))。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。

多功能改良型膠體磨,這種*的設(shè)計(jì),放眼世界,獨(dú)上海SGN一家,更多關(guān)于改良型膠體磨的信息,

 

多功能改良型膠體磨,研磨分散機(jī),簡(jiǎn)單的來(lái)講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī),合二為一了。同時(shí)具備膠體磨和分散機(jī)的功能,并且減少了膠體磨和分散機(jī)串連后的,時(shí)間差因素。從成本上來(lái)講,原先兩臺(tái)設(shè)備的價(jià)格,現(xiàn)在用一臺(tái)研磨分散機(jī)就可以完成,性?xún)r(jià)比更高。

GMSD2000系列是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)

 

 

技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來(lái)電:葛   公司有樣機(jī)可供客戶(hù)購(gòu)前實(shí)驗(yàn),
歡迎廣大客戶(hù)來(lái)我司參觀指導(dǎo)!


GMSD2000系列改良型膠體磨,研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 


*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。



            
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

1 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

 

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

 

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)

電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇 380V/50HZ220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件 PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 

GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 



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