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硫酸鋇高剪切研磨均質(zhì)機(jī)

硫酸鋇高剪切研磨均質(zhì)機(jī)

產(chǎn)品型號(hào): GMD2000/4

所屬分類:高剪切均質(zhì)機(jī)

更新時(shí)間:2024-11-17

簡(jiǎn)要描述:GMD2000系列 硫酸鋇高剪切研磨均質(zhì)機(jī)是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶

詳細(xì)說明:

   硫酸鋇高剪切研磨均質(zhì)機(jī),硫酸鋇膠體磨,硫酸鋇研磨機(jī),硫酸鋇溶液研磨均質(zhì)機(jī)研磨均質(zhì)機(jī)是將膠體磨和均質(zhì)機(jī)一體化的設(shè)備,效果遠(yuǎn)遠(yuǎn)好于單臺(tái)膠體磨處理的效果,研磨均質(zhì)機(jī)是一臺(tái)目前型的研磨分散設(shè)備

   硫酸鋇,適用于上、下消化道造影。無臭、無味粉末,密度4.25-4.5,分解溫度>1600℃。溶于熱濃硫酸,幾乎不溶于水、稀酸、醇。水懸浮溶液對(duì)石蕊試紙呈中性。

   對(duì)于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),目前許多廠家采用國(guó)產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國(guó)產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時(shí)。而使用SGN研磨均質(zhì)機(jī)進(jìn)行處理,研磨兩遍,粒徑可以細(xì)化到5μm,效果好,效率高。
 
                             

  GMD2000系列 硫酸鋇高剪切研磨均質(zhì)機(jī)SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

GMD2000/4

300-1,000

9,000

23

2.2

DN25

DN15

GMD2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40

DN32

GMD2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50

DN50

GMD2000/20

20,000

3,000

23

37

DN80

DN65

GMD2000/30

40,000

1,500

23

55

DN150

DN125

GMD2000/40

70,000

1,500

23

90

DN150

DN125


   硫酸鋇研磨均質(zhì)機(jī)的特點(diǎn):

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 硫酸鋇高剪切研磨均質(zhì)機(jī)信息來源于www.sgnprocess。。com



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